日本NEPLOS化學(xué)研磨拋光是將金屬零件用浸漬的方式，將零件微觀(guān)表面的凸起部位通過(guò)化學(xué)腐蝕的作用溶解消除，使表面凹凸差變小從而更趨于平滑的拋光技術(shù)。
普遍適用于微小，極薄和復(fù)雜形狀的零件?？梢源笈孔詣?dòng)化生產(chǎn), 適用于半導(dǎo)體芯片制造有關(guān)的設(shè)備部件，醫(yī)用微創(chuàng)手術(shù)介入部件和管件，醫(yī)用檢測(cè)微細(xì)管，以及精密機(jī)械加工部件內(nèi)孔或外部微細(xì)毛刺的清除，可um級(jí)精度控制，粗糙度Ra可以提高數(shù)倍。
不銹鋼零件內(nèi)外都可達(dá)到鏡面程度，更適合激光精密切割后的產(chǎn)品，NEPLOS化學(xué)拋光后的金屬表面可以達(dá)到超潔凈表面、平滑的鏡面表面、清除微細(xì)毛刺、反光性提高，表面吸附減少，耐腐蝕提高50倍左右, 磁性和吸附性也大大降低，細(xì)菌雜質(zhì)無(wú)殘留不易粘附。我們的化學(xué)研磨拋光對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染，在日本和美國(guó)被廣泛應(yīng)用。
實(shí)例醫(yī)療用產(chǎn)品 - 微型介入針在化學(xué)研磨前和化學(xué)研磨后的顯微鏡放大對(duì)比圖
微型介入針化學(xué)研磨拋光-前
微型介入針化學(xué)研磨拋光-后
日本NEPLOS電化學(xué)研磨拋光對(duì)比電解拋光的優(yōu)勢(shì)：不論什么形狀的零件，不需要一個(gè)一個(gè)掛起來(lái)，無(wú)需加電極，只要零件裝進(jìn)籃子里浸入一定溫度的藥水即可，零件被化學(xué)研磨液接觸的部分和研磨液浸入的部分都可以得到研磨拋光處理，比如長(zhǎng)尺寸的管子內(nèi)部，零件內(nèi)部，彎曲管子內(nèi)部都可以研磨拋光到，特別適合比較小和比較薄的零件、要求光亮的零件、要求無(wú)印記的零件、要求完全清除毛刺的零件、要求完全清潔的場(chǎng)合以及電解拋光不能處理的零件、加工效率是電解拋光的十倍以上。